悉尼大学联合香港理工大学Microstr

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引言铁电材料具备非核心对称的晶体机关,存在可被外电场翻转的自觉极化,在策画机储备器、储能电容器以及传感器等畛域具备浩大的运用前程。氧化物钙钛矿(perovskite)是最罕见的铁电材料,然则,这类材料很难完成与互补金属氧化物半导体(CMOS)电路的高度合并,是保守铁电材料用于储备器件的产业瓶颈之一。比拟于钙钛矿型铁电体,新式萤石(fluorite)机关的氧化铪(HfO2)具备高度CMOS兼容性,且能够在小于10nm厚度的薄膜中完成铁电性,为下一代高密度、非易失性铁电储备器的产业化运用带来了曙光。HfO2晶体的热力学安定相均为核心对称的晶体机关,现在经实习断定的铁电相均是亚稳相,包罗非核心对称的正交相Pca21以及菱形相。这两种亚稳相大多存在于纳米厚度的搀杂态薄膜中,且易随成长参数或外部鼓励的改动而变动成顺电相或反铁电相,见教企图1,严峻影响器件的铁电机能。连年来,洪量文件报导了经过成长参数/外部鼓励对HfO2铁电性的调控,以及安定铁电相的热/动力学规律。然则,现有的综述大多是对于HfO2铁电机能及器件物理的,险些没有综述偏重于HfO2机关演变与机能调控的关连。鉴于此,本文从机关–机能一体的角度,归纳HfO2薄膜中不同微机关特点与铁电性的对应关连,以及成长参数/外部鼓励对于HfO2薄膜内部微机关演变的影响规律。着末,对于HfO2机关–机能对应关连中于今照旧存在的科知识题,给出了肯定的预测。示企图1.HfO2薄膜在不同成长参数或外部鼓励影响下的相机关演变与铁电机能成就简介

克日,澳大利亚悉尼大学廖晓舟教学(配合通信做家)课题组的博士钻研生赵豆(第一做家),和香港理工大学陈子斌辅助教学(配合通信做家)在国际期刊Microstructures上发布了题为MicrostructuralevolutionandferroelectricityinHfO2films的综述。该综述的重心归纳以下:

重心一HfO2薄膜铁电相辩别由于HfO2的热力学安定相均为核心对称的晶体机关,着末在HfO2薄膜中观看到铁电性彷佛是一件不成思议的事件。经过X射线衍射(XRD)表征以及密度泛函理论(DFT)策画,HfO2多晶薄膜的铁电性被归因于一种非核心对称的正交相Pca21,这是一种能够经过调控晶粒尺寸、搀杂、以及热应力等前提而存在的热力学亚稳相。由于HfO2的Pca21相与其余正交相机关特别靠近,见表1及图1(a-c),不同相之间仅O原子占位有不同,这使得Pca21相的实习确认需求直接观看到O原子的场所,给实习带来极大艰巨。这个题目最后被中科院微电子所的钻研人员冲破,他们欺诈球差矫正的扫描透射电子显微镜(STEM),别离通太高角环形暗场(HAADF)及环形明场(ABF)成像本领,完成锆(Zr)搀杂的HfO2(Hf0.5Zr0.5O2,HZO)薄膜铁电相的Hf/Zr及O原子阵列成像,见图1(d-e),断定了Pca21相是此中一种铁电相。菱形相是另一种铁电相,现在仅在HZO内涵在镧锶锰氧(LSMO)/钛酸锶(STO)衬底的薄膜中观看到,其机关特点由透射电镜连系衍射的办法断定。表1.经过实习衡量或策画猜测的HfO2的多种晶体机关及晶胞参数

图1.铁电相Pca21机关表征和辩别(a-c)不同正交沿袭[]晶带轴的投影,绿色原子为Hf原子,血色原子为O原子,(d-e)HZO薄膜在[]晶带轴下的STEM-HAADF及STEM-ABF像,标尺代表1nm。

重心二HfO2多晶膜机关演变–铁电机能特色HfO2铁电多晶薄膜能够经过包罗ALD在内的多种办法制备,工艺参数老练,是以前期实行了许多关连钻研。事实讲明,在HfO2铁电多晶薄膜中,Pca21铁电相常与顺电相P21/c以及反铁电相P42/nmc并存,并能够在外部成分影响下彼此变化。此中,P21/c相是室温安定相,P42/nmc是高温安定相,Pca21是介于两者之间的亚稳相,寻常由P42/nmc沟经过退火孕育。搀杂剂、薄膜厚度以及热应力均会对Pca21相的安定性孕育影响。寻常而言,跟着搀杂剂(比如Zr)浓度在肯定范畴内添加,HfO2薄膜会呈现顺电-铁电-反铁电机能的变化,见图2(a)。与铁电性的变动相对应,薄膜内部P21/c相(顺电相)的比例渐渐减小,Pca21相(铁电相)的比例渐渐添加;当高出某个浓度,P42/nmc相(反铁电相)占主宰,见图2(b)。搀杂剂能够减小Pca21相的体吉布斯自如能,不同搀杂剂(原子半径、浓度)会对HfO2铁电机能调控起到不同的影响,见图2(c),然则寻常不能自力安定Pca21相,还需求界面能的协同影响。在HfO2多晶膜中,界面能取决于晶粒尺寸,由薄膜厚度遏制。对于ALD法制备的多晶膜,残余极化强度(Pr)寻常与薄膜厚度成反比,保持铁电性寻常需求薄膜厚度小于50nm。除了成长参数,外界鼓励,如温度、电场均会影响HfO2多晶薄膜相机关及铁电性。跟着温度抬高,Pca21相渐渐演变为高温安定相P42/nmc,与此对应,材料呈现铁电性到反铁电性的变动,见图3。与温度比拟,电场的影响愈加剧要。铁电储备器件行使期间,需求在轮回电场下保持安定。而在HfO2铁电薄膜中,轮回电场会先引发Pr加强,称为“叫醒效应(wake-up)”,再引发Pr退步,来到“电劳累(fatigue)”形态,见图4。HfO2铁电薄膜具备显著的叫醒效应,这类局势与电场影响下多晶膜内部相变、弊病从头散布、以及极化电荷注入均关连连;而电劳累局势也许与薄膜内部氧空位沿晶界的积累孕育导电通道关连,见图5。

图2.随Zr含量添加(a)呈现顺电-铁电-反铁电演变及(b)相对应的Pr及P21/c比拟例减小,(c)搀杂剂原子半径巨细及浓度对Pr的影响。

图3.温度改动而至HfO2薄膜相机关演变及铁电性

图4.电场轮回而至的叫醒效应及电劳累

图5.电场轮回而至的HZO薄膜相机关演变、弊病及极化电荷的迁徙与积累

重心三HfO2单相内涵膜机关演变–铁电机能特色在HfO2多晶薄膜中,多相并存、晶界等题目对铁电机能有很大影响,催生了内涵HfO2铁电薄膜的钻研。在内涵薄膜中,铁电相能够经过薄膜与衬底的内涵晶格失配应力安定。不同取向的钇(Y)搀杂的HfO2薄膜能够内涵在ITO/YSZ衬底上,HZO薄膜能够内涵在LSMO/STO衬底上。经过调控HfO2薄膜与衬底之间的内涵应力及界面化学成份,改动薄膜内部相机关/取向,从而影响铁电机能。整体而言,内涵薄膜寻常是取向均一的单相,且内部晶界数量少,见图6,这有益于节减多晶薄膜中因相变而致的叫醒效应及晶界处氧空位富集而致使的劳累效应,见表2。

图6.HZO内涵膜机关及薄膜与衬底LSMO/STO的内涵取向关连

表2.多晶和内涵HfO2薄膜铁电机能比拟预测

着末,做家预测了HfO2铁电薄膜钻研中仍存在的科知识题。比如,搀杂是调控HfO2薄膜铁电性一种简捷有用的办法,钻研讲明搀杂剂也许经过与薄膜内部点弊病繁杂的彼此影响来调控铁电相的演变,然则其详细影响机理尚不明确,这给材料策画带来肯定的艰巨。这个题目需求借助纳米标准的机关表征器械,是以,做家坚信原位/离位的电子显微学将在HfO2铁电薄膜钻研畛域表现很大的影响。

基金帮助

澳大利亚钻研理事会(DP191155)。

通信做家先容

陈子斌,香港理工大学辅助教学,博士生导师。恒久经过原位电子显微学本领钻研铁电材料及3D打印金属材料的宏观机关与机能关连,包罗材料的制备、成长、机能、力学动做、机关表征以及运用的钻研。迄今,以第一做家或通信做家身份在国际顶级学术期刊NatureMaterials,NatureCommunications,ScienceAdvances,PhysicalReviewLetters和ActaMaterialia发布高品质论文38篇。现担当Microstructures和MaterialsResearchLetters等期刊青年编委,以及多家国际驰名期刊审稿人。(更多钻研兴味、钻研成就、雇用缘起等方面的讯息,请参考课题组主页:

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